金属手机外壳镀膜设备**用多弧离子镀膜机。多弧离子镀膜设备是一种*、无害、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
磁控、中频、多弧离子镀膜设备技术参数说明
设备型号:ZCK-1000,ZCK-1150,ZCK-1200,ZCK-1400,ZCK-1600
真空室尺寸:1000×1200,1150×1200,1200×1300,1400×1300,1600×1300
制膜种类:金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、**膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等
电源类型:直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源
多弧靶:多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶
孪生靶:中频孪生柱靶或平面靶(1-4对)
真空室结构:立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统
真空系统:旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统)
加热系统:常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热
充气系统:质量流量控制仪(1-4路)
极限真空:6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间:空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
保压率:1h≤0.6pa
工件旋转方式:上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分
控制方式:手动+半自动/触摸屏+PLC
备注:真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做