供应1000多弧离子镀膜设备、1000磁控多弧机价格、磁控多弧离子镀膜机

多弧离子镀膜设备是一种*、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

该系列多弧离子镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射, 中频溅射和多弧离子三种技术融合一体，可适应广泛镀膜靶材，无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜, 使膜层附着力、致密度、从复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金刚石膜（DLC）、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统，全自动控制。

主要应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。

ZCK-1000A详细参数如下：

真空室尺寸：1000×1200

制膜种类：金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、**膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等

电源类型：直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源

多弧靶：多弧靶6个，1个或2个柱弧靶

孪生靶：中频孪生柱靶或平面靶（1-4对）

真空室结构：立式前开门结构（双层水套式或水槽式冷却）、后置抽气系统

真空系统：旋片泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）

加热系统：常温至350度可调可控（PID控温），不绣钢加热管加热

充气系统：质量流量控制仪（1-4路）

极限真空：6×10^－4pa（空载、净室）

抽气时间：空载大气抽至5×10^－3pa小于13分钟

保压率：1h≤0.6pa

工件旋转方式：上旋转或下旋转＋公自转变频无级可控可调，0-20转/分

控制方式：手动＋半自动/触摸屏＋PLC
备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

我司除了ZCK-1000A规格外，还有ZCK-1150A,ZCK-1200A,ZCK-1400A,ZCK-1600A