加工定制:是 **:ZCK 型号:ZCK-1200 产品别名:多弧离子镀膜机 电镀电源:直流电源 电镀位置:多弧离子镀 镀种:TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金刚石膜(DLC)、装饰膜等
多弧离子镀膜设备是一种*、无害、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
应用于五金件、玻璃工艺品,陶瓷等,如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。
该系列设备主要是(集)直流磁控溅射, 中频溅射和多弧离子三种技术融合一体,可适应广泛镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜, 使膜层附着力、致密度、从复度及颜色一致性好等特点。
可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合电气控制系统,全自动控制。
选择振华真空,就是拥有腾飞的翅膀,无论是先进显示器、太阳能、数据储存、精密光学与玻璃,还是表面工程,振华真空能为您做得更好!更远!
磁控、中频、多弧离子镀膜设备技术参数说明
设备型号 ZCK-1000 ZCK-1150 ZCK-1200 ZCK-1400 ZCK-1600
真空室尺寸 1000×1200 1150×1200 1200×1300 1400×1300 1600×1300
制膜种类金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、**膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等
电源类型直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源
多弧靶多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶 孪生靶中频孪生柱靶或平面靶(1-4对)
真空室结构立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统
真空系统旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统)
加热系统常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热
充气系统质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
保压率 1h≤0.6pa
工件旋转方式上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分
控制方式手动+半自动/触摸屏+PLC
备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做除此产品外还有: