多弧离子镀膜机(PVD镀膜设备)是一种*、无害、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
PVD镀膜设备技术参数说明
设备型号 ZCK-1200 ZCK-1400 ZCK-1600 ZCK-1800
真空室尺寸 1200×1500 1400×1950 1600×1950 1800×1950
制膜种类多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源 圆柱靶直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶
真空室结构立式双开门、立式单开门
真空系统滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统)
充气系统质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于15分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
离子镀膜机可在五金,塑胶,玻璃表面镀制不同颜色的膜层。致密度高,表面光滑。该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧电子蒸发三种技术融合一体,广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求**起硬的刀具、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜(DLC)。我司所生产的真空设备均可根据客户要求定制!欢迎来电咨询;0758-2787178或0755-26500053(深圳办事处)