供应电阻/电容/传感器**磁控溅射镀膜机

电阻/电容/传感器**磁控溅射镀膜机技术参数说明设备型号 ZCK-1200 ZCK-1400 ZCK-1600 ZCK-1800 真空室尺寸 1200×1500 1400×1950 1600×1950 1800×1950 制膜种类多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等 电源类型直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源 圆柱靶直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶 真空室结构立式双开门、立式单开门 真空系统滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统） 充气系统质量流量控制仪（1-4路） 极限真空 6×10－4pa（空载、净室） 抽气时间空载大气抽至5×10－3pa小于15分钟 工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速 控制方式手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC 备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 中频磁控溅射镀膜机可在塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材、电阻、电容、传感器**磁控溅射镀膜机等行业。

该系列设备主要是（集）直流磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料，可利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。

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