振华真空生产的磁控溅射镀膜设备的主机控制采用可编程序控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合电气控制系统。全自动控制,配置先进大功率磁控电源,恒流输出,克服靶中毒。
磁控溅射全自动镀膜设备技术参数说明
设备型号:ZCK-1200,ZCK-1400,ZCK-1600,ZCK-1800
真空室尺寸:1200×1500,1400×1950,1600×1950,1800×1950
制膜种类:多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型:直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
圆柱靶:直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶
真空室结构:立式双开门、立式单开门
真空系统:滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统)
充气系统:质量流量控制仪(1-4路)
极限真空:6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间:空载大气抽至5×10-3pa小于15分钟
工件旋转方式:6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式:手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注:真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
因市场和生产发展需要,同时,为改善企业形象,提升企业的现场管理水平,现本公司已从2012年10月20日开始,正式从原“肇庆市端州区端州一路端州科技园内兴华二路”迁至新址“广东省肇庆市肇庆大道西段云桂路振华工业园(321国道过境公路近蓝带啤酒厂)”,原电话、传真、邮政编码、邮箱等联络方式不变。