供应PECVD磁控溅射生产线

PECVD磁控溅射生产线是大型平面**制备硅类膜连续生产设备、增强等离子化学沉积连续生产镀膜设备，采用射频PECVD化学气相沉积技术，沉积速率快，成膜质量好，可镀制氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜种类。
二、真空室尺寸和技术指标：
大产品尺寸：1000×800（尺寸可根据客户要求订做）
1、极限压强：5×10－4pa
2、生产节拍：3-5分钟。（根据生产工艺而定）。
三、组成和系统：

1、PECVD磁控生产线由八个室组成，分别为：过渡室—加热室—镀膜四室—冷却室—过渡室。

振华真空不仅生产PECVD磁控溅射生产线，还可生产Low-E玻璃镀膜生产线，触摸屏连续磁控溅射镀膜生产线、大面积AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线、大面积ITO透明导电膜连续式磁控溅射镀膜生产线、光伏薄膜铝背电极生产线等等生产线。欢迎新老客户来电咨询。

因市场和生产发展需要，同时，为改善企业形象，提升企业的现场管理水平，现本公司已从2012年10月20日开始，正式从原“肇庆市端州区端州一路端州科技园内兴华二路”迁至新址“肇庆市端州区肇庆大道（8区）云桂路东侧”，原电话、传真、邮政编码、邮箱等联络方式不变。