磁控多弧镀膜机在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，，可以做到多复合膜层一次性完成，膜层具有很高的结合力、硬度、**系数，特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。

技术参数:
▲真空室箱体：1600*1300，并可以根据客户具体要求设计非标产品
▲夹具方式 ：采用上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调，0-20转/分。
▲控制方式：采用手动+半自动+全自动/触摸屏+PLC。
▲靶:采用整体制造技术，严格缜密的磁场设计和磁场布局，溅射刻蚀均匀。
▲电源：配置有高频直流电源（20KW、40KW等规格）、直流脉冲电源（电压、占空比可调节），逆变电弧电源，并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。
▲抽气系统：采用国产**机械泵、罗茨泵、扩散泵，根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。
▲抽真空参数：从大气抽至5*10‾³Pa≤15min 极限真空度8*10‾4Pa 控制系统