陶瓷真空镀膜机不仅可用于陶瓷行业，还可应用于塑料制品、树脂、水晶玻璃等。

        该系列设备主要是使用直流（或中频）磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。

        主机控制采用可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统。全自动控制，配置先进大功率磁控电源，恒流输出，克服靶中毒。

磁控溅射全自动镀膜设备技术参数说明

设备型号
ZCK-1200
ZCK-1400
ZCK-1600
ZCK-1800

真空室尺寸
1200×1500
1400×1950
1600×1950
1800×1950

制膜种类:多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等

电源类型: 直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源

圆柱靶:直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶

真空室结构:立式双开门、立式单开门

真空系统: 滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）

充气系统: 质量流量控制仪（1-4路）

极限真空: 6×10－4pa（空载、净室）

抽气时间: 空载大气抽至5×10－3pa小于15分钟

工件旋转方式:6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速

控制方式: 手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC

备注:真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做