供应多弧离子镀膜设备

多弧离子镀膜设备是一种*、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

TG-1150多弧离子镀膜设备主要技术参数：
1）镀膜室尺寸：1150*1200
2）真空系统：油扩散泵两台，2x-70升旋片泵一台，罗茨泵一台，2x-15升旋片泵一台
3）极限真空：5*10-4pa
4）抽气时间：从大气抽至5*10-3pa小于20分钟（空载）
6）多弧源：8个*95，功率：8*2KW
7）磁控溅射平面靶（无）
8）磁控中频溅射圆柱靶2支*30KW
9）偏压：20KW
10）温度控制：用温控仪控制，热电偶测量炉内温度
11）真空室加热：6根加热管
12）工件 转架：9轴公自转
13）充气方式：一路质量流量控制
14）设备总功率：80KW
15）设备总重量：约4T
16）设备总占地面积：16M2
17）使用220V/380V电压
18）用于冷却的水亦以软水为宜，水压为2kg/cm2
19）气源4-6kg/cm2，选用0.1立方的压缩机为宜

结构说明：
本机由全全不锈钢焊接成形。真空室为双层水冷套。机组配置为扩散泵两台，罗茨泵一台，升粗抽泵一台和升维持泵一台。配8个弧源靶，4个圆柱靶，工件为14轴装夹方式，阀门控制为拨动控制。